• 卡斯图近红外显微镜MIR200

    详细信息

     品牌:卡斯图  型号:MIR200  加工定制:是  

    MIR200 近红外显微镜

        苏州卡斯图电子有限公司自主研发的无损红外透视显微技术,广泛交付于半导体(Semiconductor)领域公司、平板显示(FPD)公司、科研单位、高校及第三方实验室、军工企业,解决了该技术多年来被日本奥林巴斯垄断的窘境,为国内外客户创造了更高的效益。

        该技术方案得益于精密光学设计、纳米级加工的集成式光学系统,创造性地兼容于常规金相显微镜(2寸-12寸)、常规体视显微镜(伽利略型及格林诺夫型)、常规工具显微镜、常规影像测量仪、超景深显微镜、大型龙门工业显微镜(ZUI大120寸)。技术方案可采用结构光、近红外波段、中远红外波段、太赫兹波段穿透芯片、显示面板表层封装的非金属化合物,对客户产品进行无损检查。其微米/纳米级物体内部无损检测技术在VECSEL器件、薄膜型黏晶材料穿透、全复消色差红外检测、可见光/红外对位检测等应用。
    MIR200红外显微镜——硅基无损红外透视显微解决方案

    D一代半导体(硅基)
    D一代半导体是单质材料,因此也被称为“元素半导体”。世界上D一只晶体管是由锗(Ge)生产出来的,但锗的非必要能耗与器件耗损,以及储量和价格,相较硅来说不具优势。硅(包括硅基)器件占到了全球销售的一代半导体产品95%以上。

    国内前三晶圆代工厂,12寸晶圆无损穿透案例:
        常规可见光显微镜                  MIR400显微镜红外无损穿透                                                                                                                                                             


    MIR200
    MIR全系列工业显微镜,2寸/4寸/6寸/8寸/12寸,能够穿透样品表面,进行良好地无损观察检测,检测效果良好、速度快,大幅提升了客户效率。本系列显微镜可根据客户要求定制滤片、镜头、相机、平台,可搭配自动传动设备。

    单击点开视频:MIR200高速红外透视检测  20FPS

    D一代半导体(硅基)

    薄膜型黏晶材料主要应用于堆叠式晶片级封装体(Stacked Chip Scale Package,SCSP)中,对于两种黏晶材料DAF(Die Attach Film)与FOW(Film Over Wire),公司红外穿透显微镜结合特殊观察方式,能够轻松穿透两种黏晶材料。

     

    国内LED制造企业之一,6寸晶圆无损穿透硅片背面及DAF膜案例:

                         无效检测                                                  无效检测                                                          MIR200穿透DAF/FOW薄膜D一代半导体(硅基)图片赏析
    已交付近50家国内客户用于硅(硅基)产品,以下为MIR200近红外显微镜拍摄效果图片。

    D一代半导体(硅基)图片赏析

    已交付近50家国内客户用于硅(硅基)产品,以下为MIR200近红外显微镜拍摄效果图片。

    国内航空航天军工企业,红外双目对位检测案例:


     
    IR显微镜可用于透过硅材料成像,倒装芯片封装的不良状况无损分析,通过红外显微镜对硅片穿透可观察晶体生长过程中的位错,隐裂痕,芯片划片封装的不良状况无损分析,封装后的焊接部分检查,可直接穿透厚度不超过600μm的硅片,观察IC芯片内部,观察内部线路断裂,崩边,崩裂,溢出等,也应用于包括产品晶圆生产内部缺陷检查,短断路检查,键合对准(薄键合电路)
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